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PF-300T    12英寸PECVD设备

   12英寸PECVD设备是国家“十一五”重大专项所支持,由我公司自主研发的12英寸PECVD设备,拥有100%知识产权。其用于40-28纳米集成电路的生产,具备14-10纳米技术的延伸性。设备生产成本(CoO)及性能指标,达到世界领先水平。设备已在近10家国内及台湾企业的大估摸集成电路及先进封装生产线实施量产,累积超过100万片。

特点:

国际领先的生产成本(CoO)及性能指标

可搭载1-3个PM

成熟的SiO2、SiN及SiON标准工艺

具有TSV所需的低温(<200℃)TEOS SiO2工艺

可配置1-3路液态源

通过S2安全认证和F47标准检验

可选8英寸兼容组件切换

 

 

PF-200T    8英寸PECVD设备

   由我公司自主研发的8英寸PECVD设备,拥有100%知识产权。PF-200T是基于PF系列平台开发,在硬件结构以及系统稳定性和PF-300T保持一致,PF-300T在众多的客户产线经过了严格的验证。设备生产成本(CoO)及性能指标,达到世界领先水平。设备已进入国内知名大规模集成电路企业验证,将填补国内无8英寸PECVD设备量产的空白,充分体现公司在8-12英寸PECVD设备的技术实力。

 

特点:

国际领先的生产成本(CoO)及性能指标

可搭载1-3个PM

采用现有零部件,降低维护成本

成熟的SiO2,SiN及SiON标准工艺

可配置1-3路液态源

具备高温(400℃)的TEOS SiO2工艺

具备TSV所需的低温(<200℃)TEOS SiO2工艺

通过S2安全认证和F47标准检验