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沈阳拓荆科技有限公司新厂启用 振兴东北再添动力

日期:2017年4月19日 14:42

    2017年4月14日,沈阳拓荆科技有限公司位于沈阳市浑南区的新厂正式启用,这标志着沈阳市“中国制造2025”实施又取得一项重大进展。

    拓荆公司是国内领先的半导体薄膜设备研发与制造企业。公司两次承担国家极大规模集成电路重大科技专项,现已形成等离子体增强化学气相沉积设备(PECVD)、原子层薄膜沉积设备(ALD)、三维存储器(3D NAND)专用薄膜设备三个系列产品,产品指标均为世界领先水平,填补了多项国内空白。拓荆科技也成为国家IC装备产业战略布局中的一个关键技术企业,并获得了国家集成电路产业投资基金成立后的首批战略投资。

    拓荆公司12英寸PECVD产品现已进入产业化阶段,市场规模迅速扩大,拥有中芯国际、长江存储、厦门联芯、苏州晶方、华进半导体、华天科技、上海和辉等一批高端客户。随着国内半导体制造业的整体爆发式增长,未来中国新建半导体制造厂总投资约650亿美元,其中70%为设备投资,薄膜沉积设备需求约占设备总投资的20%,未来5年内将拥有累计超300亿人民币的巨大市场潜力。

    为把握战略机遇,加速企业发展,在国家大基金、国家02重大专项、省市区三级政府的大力支持下,拓荆公司于2015年8月启动了产业化基地的建设。该基地是目前国内首个半导体薄膜设备产业化基地,总投资1.5亿元,仅用一年零三个月就完成了项目建设。新厂占地80亩,总建筑面积40000平方米,拥有十级、百级、千级洁净厂房共计2800平方米。一期可实现年产100台套,二期投产将达到年产350台套设备的生产能力,可支撑年产值达50亿元的生产规模。

    多年来,拓荆公司始终坚持以创新驱动发展,以国际技术专家为带头人,采用与国际接轨的管理模式。先后引进海外专家14人,其中国家千人计划专家3人。员工人数达到230人,申请专利316余项,是辽宁省知识产权优势企业。未来拓荆还将建立半导体薄膜装备博士后工作站及国家级半导体薄膜装备工程技术研究中心,吸引及汇聚全国范围内相关专业的优秀人才。

拓荆公司通过十年的奋斗,已经成了“中国制造2025”在辽沈大地上的典型样本。在新一轮振兴东北战略中,拓荆已做好准备,立志在中国建立国际一流的半导体设备公司。

   

   

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